Accueil
Déposer
S'authentifier
S'inscrire
Consulter
Liste des articles
Par date de rédaction, publication
Par domaine
Par laboratoire
Par collection
ArXiv
Rechercher
Recherche simple
Recherche avancée
Accès par identifiant
Services
S'abonner
Liste de publication
Consulter les laboratoires connus de HAL
Aide
Manuel
À propos
version française
english version
.:.
Consulter
>
Par domaine
> Plasmas .:.
2 documents classés par :
date
titre
1er auteur
Type de documents
Date de dépôt
Characterization of a low pressure capacitively coupled RF discharge in N2-H2. (poster)
Wattieaux G., Berndt J., Kovacevic E., Mikikian M., Boufendi L., Carrasco N., Cernogora G., Gouveia A., Pintassilgo C.D., Marques L. et al
63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas (GEC & ICRP 2010)
, France (2010) [hal-00612661 - version 1]
A continuous non-linear shadowing model of columnar growth
Vo Thi T. H., Rouet J.-L., Brault P., Bauchire J.-M., Cordier S., Josserand C.
Journal of Physics D: Applied Physics
41
(2008) 022003 (3pp) [hal-00190948 - version 2]
